一、步入凈化車間前期準備工作；1. 進入凈化車間前，必須經(jīng)過凈化工程公司專業(yè)培訓。2. 進入凈化車間嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，并嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。3. 進入無塵室前，需在規(guī)定之處所脫鞋，將鞋置于鞋柜內(nèi)，外衣置于衣柜內(nèi)，私人物品置于私人柜內(nèi)，柜內(nèi)不可放置食物。4. 進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規(guī)定依程序穿戴整齊，再經(jīng)空氣洗塵室洗塵，并踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。5. 戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染芯片。6. 穿著無塵衣，無塵帽前應先整理服裝以及頭發(fā)，以免著上無塵衣后，不得整理又感不適。7. 整肅儀容后，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則系:(1)頭發(fā)必須完全覆蓋在帽內(nèi)，不得外露。(2)無塵帽之下擺要平散于兩肩之上，穿上工作衣后，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。8. 無塵帽戴妥后，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態(tài)，無塵衣不可反穿。 潔凈網(wǎng)- ]r1O w:w9*42w+BV9. 穿著無塵衣后，才著鞋套，拉上鞋套并將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。10. 戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套后，應將手套之手腕置于衣袖內(nèi)，以隔絕污染源。11. 無塵衣著妥后，經(jīng)洗塵，并踩踏除塵毯，方得進入無塵室。12. 不論進入或離開無塵室，須按規(guī)定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區(qū)域為之，尤不可在無塵室內(nèi)邊走邊脫。13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。15. 脫下之無塵衣應吊好，并放于更衣室內(nèi)上層柜子中;鞋套應放置于吊好的無塵衣下方。16. 更衣室內(nèi)小柜中，除了放置無塵衣等規(guī)定物品外，不得放置其它物品。17. 除規(guī)定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。18. 無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置于規(guī)定處所。19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭干凈。21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭干凈，方可進入。22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。23. 無塵室內(nèi)絕對不可動火，以免發(fā)生意外。二、無塵室操作須知1.   處理芯片時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持芯片，請勿以手指或其它任何東西接觸芯片，遭碰觸污染過的芯片須經(jīng)清洗，方得繼續(xù)使用：(1) 任何一支鑷子前端(即挾持芯片端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。(2) 芯片清洗后進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。(3) 把芯片放置于石英舟上，準備進爐管時，若發(fā)現(xiàn)所用鑷子有污損現(xiàn)象或芯片上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將芯片重新清洗，并立即更換干凈的鑷子使用。2. 芯片必須放置盒中，蓋起來存放于規(guī)定位置，盡可能不讓它暴露。3. 避免在芯片上談話，以防止唾液濺于芯片上，在芯片進擴散爐前，請?zhí)貏e注意，防止上述動作產(chǎn)生，若芯片上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟，石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出芯片時，必須垂直向上挾起，避免刮傷芯片，顯微鏡鏡頭確已離芯片，方可從吸座上移走芯片。5. 芯片上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鉆石刀在芯片上刻記。6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。 7. 使用化學站或烤箱處理芯片時，務必將芯片置放于鐵弗龍晶舟內(nèi)，不可使用塑料盒。8. 擺置芯片于石英舟時，若芯片掉落地上或手中則必須重新清洗芯片，然后再進氧化爐。9. 請勿觸摸芯片盒內(nèi)部，如被碰觸或有碎芯片污染，必須重作清洗。10. 手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置于操作臺，手套若燒焦、磨破或纖維質(zhì)變多必須換新。11. 非經(jīng)指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。14. 芯片盒進出無塵室須保持干凈，并以保鮮膜封裝，違者不得進入。15. 無塵室內(nèi)一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。三、黃光區(qū)操作須知1. 濕度及溫度會影響對準工作，在黃光區(qū)應注意溫度及濕度，并應減少對準機附近的人，以減少濕、溫度的變化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得攜出黃光區(qū)以免感光。3. 己上妥光阻，而在等待對準曝光之芯片，應放置于不透明之藍黑色晶盒之內(nèi)， 盒蓋必須蓋妥。4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。 5. 曝光時，應避免用眼睛直視曝光機汞燈。四、鑷子使用須知1. 進入實驗室后，應先戴上手套后，再取鑷子，以免沾污。2. 唯有使用干凈的鑷子，才可持取芯片，鑷子一旦掉在地上或被手觸碰，或因其它原因而遭污染，必須拿去清洗，方可再使用。半導體無塵車間